什么是半色调掩模和半色调掩模坯介绍

《半色调掩模和半色调掩模坯》是株式会社SK电子于2017年7月6日申请的专利，该专利公布号为CN107589630B，专利公布日为2021年6月15日，发明人是齐藤隆史。

半色调掩模和半色调掩模坯对比文件

TW 334585 B,1998.06.21;  JP 2010271572 A,2010.12.02;  CN 1912740 A,2007.02.14;  CN 101713919 A,2010.05.26;  CN 101398611 A,2009.04.01

半色调掩模和半色调掩模坯专利摘要

在现有的多灰阶的半色调掩模中，利用缺陷检查装置检测半透膜上形成的针孔缺陷，并进行修正，因此难以对于例如检测极限以下的细微的针孔缺陷进行修复。本发明提供一种半色调掩模，通过将半色调掩模的半透膜相对于透明基板的相位差设为60度～90度、相对于透明基板的透射率设为20％～50％，能够防止作为被转印体的光致抗蚀剂因特定大小以下的半透膜的针孔而感光，能够降低产品中产生图案缺陷的风险。